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IEEE會士、ProspicientDevices首席研究科學家30多年工業經驗和20多年教學經驗的結晶,理解GaN電晶體結構、特性和應用的實用指南。

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配有大量的短視頻和微課,可供工礦企業電工,從事電力設計、製造、維修工作的工程師和科技人員,以及其他專業相關人員使用。

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【CMOS集成電路EDA科技】+【CMOS類比集成電路版圖設計:基礎、方法與驗證】+【集成功率器件設計及TCAD模擬】+【用於集成電路模擬和設計的FinFET建模基於BSIM-CMG標準】【CMOS集成電路EDA科技】+【CMOS類比集成電路版圖設計:基礎、方法與驗證】+【集成功率器件設計及TCAD模擬】+【用於集成電路模擬和設計的FinFET建模基於BSIM-CMG標準】

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聚焦CMOS類比集成電路版圖設計領域,從版圖的基本概念、設計方法和EDA工具入手,循序漸進地介紹了CMOS類比集成電路版圖規劃、佈局、設計到驗證的全流程。

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【功率半導體器件封裝技術】+【氮化鎵功率器件資料、應用及可靠性】+【晶片設計CMOS類比集成電路版圖設計與驗證】+【晶片製造電晶體工藝與設備】【功率半導體器件封裝技術】+【氮化鎵功率器件資料、應用及可靠性】+【晶片設計CMOS類比集成電路版圖設計與驗證】+【晶片製造電晶體工藝與設備】

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闡述了功率半導體器件封裝技術的發展歷程及其涉及的資料、工藝、品質控制和產品認證等方面的基本原理和方法

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【繞射極限附近的光刻工藝】+【計算光刻與版圖優化】+【雷射熱敏光刻:原理與方法】【繞射極限附近的光刻工藝】+【計算光刻與版圖優化】+【雷射熱敏光刻:原理與方法】

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光刻是集成電路製造的核心技術,光刻工藝成本已經超出集成電路製造總成本的三分之一。 在集成電路製造的諸多工藝單元中,只有光刻工藝可以在矽片上產生圖形,從而完成器件和電路三維結構的製造。 計算光刻被公認為是一種可以進一步提高光刻成像品質和工藝視窗的有效手段。 基於光刻成像模型,計算光刻不僅可以對光源的照明管道做優化,對掩模上圖形的形狀和尺寸做修正,還可以從工藝難度的角度對設計版圖提出修改意見,*終保證光刻工藝有足够的分辯率和工藝視窗。

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大學之路:【陪女兒在美國選大學】(兩卷)大學之路:【陪女兒在美國選大學】(兩卷)

大學之路:【陪女兒在美國選大學】(兩卷)

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大學之路:【陪女兒在美國選大學】(兩卷)

新增了公立大學的內容,包括公立教育的意義和美國的公立教育,以及公立教育的典範伯克利,此外還有大學排名和大學申請的相關內容。

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